國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示,江蘇魯汶儀器股份有限公司取得一項(xiàng)名為“一種多離子源處理設(shè)備”的專(zhuān)利,授權(quán)公告號(hào)CN223842872U,申請(qǐng)日期為2024年12月。專(zhuān)利摘要顯示,本申請(qǐng)公開(kāi)了一種多離子源處理設(shè)備,涉及半導(dǎo)體加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,多離子源處理設(shè)備包括:工藝腔室;載臺(tái),設(shè)置在工藝腔室的底部,載臺(tái)具有用于放置待處理工件的承載面;載臺(tái)能夠沿垂直于承載面中心的第一軸線(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng),還能夠沿平行于承載面的第二軸線(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng);第一離子源,可移動(dòng)的安裝在工藝腔室的頂部,能夠出射第一離子束,第一離子束的照射區(qū)域覆蓋承載面的局部區(qū)域;第二離子源,第二離子源安裝在工藝腔室的頂部,能夠出射第二離子束,第二離子束的照射區(qū)域至少覆蓋承載面。本申請(qǐng)技術(shù)方案可以通過(guò)第一離子源出射的第一離子束和第二離子源出射的第二離子束對(duì)待處理工件進(jìn)